本公司的PECVD系統進入東南大學，現安裝調試中

PECVD系統，它由管式爐，石英真空室、真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。主要使用于:金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，石墨烯等生長。增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能。該PECVD系統具有： 薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。